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PECVD等离子增强化学气相沉积

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北京特博万德科技有限公司
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可沉积薄膜:氧化物薄膜、氮化物薄膜,氮氧化物薄膜、无定形硅薄膜和碳化硅薄膜等等,根据电极的配置,可用于单基片工艺,也可配备承片盘,处理基片(3”~12”尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”,3x4”,7x2”)。产品型号,有研发型,小规模生产型适用于不同的客户要求。 欢迎您的来电索取相关产品资料。 北京特博万德科技有限公司
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